Шийт маска със силно хидратиращо и успокояващо действие
Листна маска, която съдържа екстракт от листа на Centella asiatica, който успокоява чувствителната кожа и комплекс от хиалуронова киселина, който осигурява по-добра хидратация, за да поддържа кожата овлажнена.
Начин на употреба:
- Правилно почистване и тонизиране на кожата
- Изчакайте 15-20 минути, след което отстранете маската, като леко потупвате излишната есенция, докато се абсорбира.
Състав: - За най точен състав прочетете етикета.
Water, Centella Asiatica Leaf Extract (10%), Butylene Glycol, Glycerin, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Xylitol, Panthenol, Salix Alba (Willow) Bark Extract, Origanum Vulgare Leaf Extract, Chamaecyparis Obtusa Leaf Extract, Loyactean Fermentus / Sausage Scutellaria Baicalensis Root Extract, Portulaca Oleracea Extract, Cinnamomum Cassia Bark Extract, Tocopherol, Candida Bombicola / Glucose / Methyl Rapeseedate Ferment, Glycine Soja (Soybean) Sterols, Moringa Oleifera Seed Oil, Oleyl Alcohol, Octyldodecosumine, Phyraosphingumine, Phyraosphingumine, Phyraosphingumin, Phyra , Ceramide NP, Phytosphingosine, Hydrogenated Lecithin, Sodium Hyaluronate, Sodium Hyaluronate Crosspolymer, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Hydrogenated Lecithin, Hyaluronic Acid, Hydrolyzed Sodium Hyaluronate, Carbomer, Allantoin, Arginine, Aniseium Dimethicone, PCA -Hexanediol, Polyglyceryl-10 Laurate, Polyglyceryl-4 Laurate, Caprylyl / Capryl Glucoside, Hydroxyethylcellulose, Ethylhexylgly cerin, Dipotassium Glycyrrhizate, Caprylyl Glycol, Pentylene Glycol, Disodium EDTA
ПРЕДУПРЕЖДЕНИЯ:
Само за външна употреба.
Спрете употребата и се консултирайте с лекар, ако се появи обрив или дразнение.
Съхранявайте на недостъпно за деца място.
Add your review
Your email address will not be published. Required fields are marked *
Please login to write review!
Looks like there are no reviews yet.